深圳市联生佳科技有限公司

深圳市联生佳科技有限公司

联生佳真空镀膜厂家 表面处理专家 为世界添色彩

咨询热线:

0755-2834080

您现在所在位置: 首页新闻动态行业新闻

行业新闻

联生佳总结常用真用术语

来源:联生佳  发布时间:2018-04-27   点击量:172

1.标准环境条件 standard ambient condition: 温度为20

℃,相对湿度为65%,大气压力为101325Pa=1013.25mbar=760Torr。

2.气体的标准状态 standard reference conditions for gases:温度为0℃,压力为:101325Pa。

3.压力(压强)p pressure:气体分子从某一假想平面通过时,沿该平面的正法线方向的动量改变率,除以该平面面积或气体分子作用于其容器壁表面上的力的法向分量,除以该表面面积。注:“压力”这一术语只适用于气体处于静止状态的压力或稳定流动时的静态压力。

4.帕斯卡Pa pascal:国际单位制压力单位,1Pa=1N/m2。

5.托Torr torr:压力单位,1Torr=1/760atm。

6.标准大气压atm standard atmosphere:压力单位,1atm=101325Pa。

7.毫巴mbar millibar:压力单位,1mbar=102Pa。

8.分压力 partial pressure:混合气体中某一组分的压力。

9.全压力 total pressure:混合气体中所有组分压力的总和。

10.真空 vacuum:在指定空间内,低于环境大气压力的气体状态。

11.真空度 degree of vacuum:表示真空状态下气体的稀薄程度,通常用压力值来表示。

12.真空区域 ranges of vacuum:真空区域大致划分如下:
真空区域          压     力
                  Pa         Torr
低真 空       105~102       760~1
中真 空       102~10-1     1~10-3
高真 空       10-1~10-5     10-3~10-7
超高真空       <10-5       <10-7

13.气体 gas:不受分子间相互作用力的约束且能自由地占据任意空间的物质。注:在真空技术中,“气体”一词不严格地应用于非可凝气体和蒸汽。

14.分子数密度n,m-3 number density of molecules:在某瞬时,气体中某点周围体积内的分子数,除以该体积。

15.平均自由程ι、λ,m mean free path:一个分子与其它气体分子每连续二次碰撞走过的路程,叫自由程。相当多的不同自由程的平均值,叫平均自由程。

16.碰撞率ψ collision rate:在给定的时间间隔内,一个分子(或其它规定粒子)相对于其它气体分子(或其它规定粒子)运动,受到的平均碰撞次数,除以该时间。这个平均碰撞次数是应在足够多的分子数和足够长的时间间隔下取得。

17.体积碰撞率χ volume collision rate:在给定时间间隔内,在围绕规定一点的空间范围内气体分子间的平均碰撞次数,除以该时间和该空间范围体积。所取时间间隔和体积不应太小。

18.气体量G quantity of gas:处于平衡状态的理想气体所占有的体积同其压力的乘积。此值必须注明气体温度或换算成20℃时的数值。注:气体量是指该量气体所占体积内气体内禀能量(或位能)的2/3。

19.气体的扩散 diffusion of gas:气体由于浓度梯度而在另一种介质中的运动。介质可以是另一种气体(这种情况下的扩散称之为互扩散)或者是可凝聚物质。

20.扩散系数D diffusion coefficient; diffusivity:通过单位面积的质量流率的绝对值同该单位面积的法向浓度梯度之比。

21.粘滞流 viscous flow:气体分子的平均自由程远小于导管最小截面尺寸的流态。因此,流动取决于气体的粘滞性,粘滞流可以是层流或滞流

22.粘滞系数η viscous factor:在气流速度梯度方向单位面积上的切向力与速度梯度之比。

23.吸附 sorption:固体或液体(吸附剂)对气体或蒸汽(吸附质)的捕集现象。

24.表面吸附 adsorption:气体或蒸汽(吸附质)存留在固体或液体(吸附剂)表面上的吸附现象。

25.物理吸附physisorption:由于物理作用的吸附现象。

26.化学吸附 chemisorption:由于化学作用的吸附现象。

27.吸收absorption:气体或蒸汽(吸附质)扩散进入到固体或液体(吸附剂)内部的现象。

28.适应系数α accommodation factor:入射到某一表面的粒子和该表面实际交换的平均能量与粒子在该表面上达到完全的热平衡条件所应当交换的平均能量之比。

29.入射率υ impingement rate:在给定时间间隔内,入射到表面的分子数,除以该时间和该表面面积。

30.迁移 migration:分子在表面上的移动。

31.解吸 desorption:被材料吸附的气体或蒸汽的释放现象。释放可以是自然的,也可用物理方法加速。

32.去气 degassing:气体从材料中人为的解吸。

33.放气 outgassing:气体从材料中自然的解吸。

34.解吸或放气或去气速率qGU desorption or outgassing or degassing rate:在给定时间间隔内,从材料中解吸(或放气或去气)的气体流量(或分子流率),除以该时间和该表面面积。

35.蒸发率 evaporation rate:在给定时间间隔内从表面上蒸发的分子数(或物质量或物质质量)除以该时间和该表面面积。

36.粗抽时间roughing time:前级真空泵或前级真空抽气装置从大气压抽至基础压力或抽至在较低压力下工作的真空泵的起动压力所需要的时间。

37.抽气时间pump-down time:将真空系统的压力从大气压降低到一定压力,例如降到基础压力所需要的时间

38.真空密封圈ring gasket:一种环形真空密封件。注:有各种不同截面形状的真空密封圈,例如:“O”形密封圈 ,“V” 形密封圈,“ L” 形密封圈和其它型材的密封件(金属型材密封件)。

39.观察窗viewing window:作为观察装置运转情况的一种真空窗。注:在某些应用场合必须对观察窗的光学性能提出一定的要求。

40.充气阀charge valve:把气体充入真空系统的阀。

41.进气阀gas admittance valve:将气体放入到真空系统中的一种真空控制阀。

42.真空截止阀break valve:用来使真空系统的两个部分相隔离的一种真空阀。通常它不能当作控制阀使用。

43.前级真空阀backing valve:在前级真空管路中用来使前级真空泵和与其相连的真空泵隔离的一种真空截止阀。

44.旁通阀 by-pass valve:在旁通管路中的一种真空截止阀。

45.电磁阀electromagnetically operated valve:用电磁力为动力开闭的阀。

46.挡板阀baffle valve:阀板沿阀座轴向移动开闭的阀。

47.翻板阀flap valve:阀板翻转一个角度开闭的阀。

48.插板阀gate valve:阀板沿阀座径向移动开闭的阀。

49.蝶阀butterfly valve:阀板绕固定轴在阀口中转动开闭的阀。

50.前级泵:用于维持某一真空泵前级压强低于其临界前级压强的真空泵。如罗茨泵前配置的旋片或滑阀泵就是前级泵。

51.粗抽泵:从大气压下开始抽气,并将系统压力抽到另一真空泵开始工作的真空泵。如真空镀膜机中的滑阀泵,就是粗油泵。

52.维持泵:在真空系统中,气量很小时,不能有效地利用前级泵。为此配置一种容量较小的辅助泵来维持主泵工作,此泵叫维持泵。如扩散泵出口处配一台小型旋片泵,就是维持泵。

53.真空镀膜 vacuum coating

在处于真空下的基片制取膜层的一种方法。

54.基片 substrate

膜层承受体。

55.试验基片 testing substrate

在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。

56.镀膜材料 coating material

用来制取膜层的原材料。

57.溅射材料 sputtering material

在真空溅射中用来溅射的镀膜材料。

58.膜层材料(膜层材质) film material

组成膜层的材料。

59.溅射速率 sputtering rate
   在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。

60.沉积速率 deposition rate

在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。

61.镀膜角度 coating angle

入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。

62.真空溅射 vacuum sputtering

在真空中,惰性气体离子从靶表面上轰击出原子(分子)或原子团的过程。

63.离子束溅射  ion beam sputtering

利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。

64.辉光放电离子清洗 glow discharge cleaning

利用辉光放电原理,使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。

65.物理气相沉积 PVD physical vapor deposition

在真空状态下,镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化,沉积到基片上的一种制取膜层的方法。

66.化学气相沉积 CVD chemical vapor deposition

一定化学配比的反应气体,在特定激活条件下(通常是一定高的温度),通过气相化学反应生成新的膜层材料沉积到基片上制取膜层的一种方法。

67.磁控溅射 magnetron sputtering

借助于靶表面上形成的正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面特定区域,来增强电离效率,增加离子密度和能量,因而可在低电压,大电流下取得很高溅射速率。

68.等离子体化学气相沉积:PCVD  plasma chemistry vapour deposition

通过放电产生的等离子体促进气相化学反应,在低温下,在基片上制取膜层的一种方法。

69.空心阴极离子镀  HCD hollow cathode discharge deposition

利用空心阴极发射大量的电子束,使坩埚内镀膜材料蒸发并电离,在基片上的负偏压作用下,离子具有较大能量,沉积在基片表面上的一种镀膜方法。

70.电弧离子镀 arc discharge deposition

以镀膜材料作为靶极,借助于触发装置,使靶表面产生弧光放电,镀膜材料在电弧作用下,产生无熔池蒸发并沉积在基片上的一种镀膜方法。

71.靶 target

用粒子轰击的面。

72.挡板 shutter

用来在时间上和(或)空间上限制镀膜并借此能达到一定膜厚分布的装置,挡板可以是固定的也可是活动的。

MORE+ 推荐产品

真空镀膜圆形箱包五金扣

真空镀膜箱包配饰扣

PVD真空镀膜五金件

IP彩色真空镀膜指环

真空镀膜锌合金表带

真空镀膜手表壳

热门标签:

联系联生佳

联系人:汪经理手机:13544105005

电话:0755-2834080传真:0755-28340806

邮箱:lsjwsx@szunionbest.com

地址:深圳市坪山新区坑梓街道龙田社区莹展工业区A1栋3楼

东方彩票平台gapkhoone.com版权所有©2018深圳市联生佳科技有限公司 All Rights Reserved
粤ICP备16049483号

扫描二维码

阿里店铺

阿里店铺

Top
友情链接:幸运彩票官网  88彩票官网  幸运彩票官网  秒速赛车  爱投彩票  状元彩票  秒速赛车官网  

免责声明: 本站资料及图片来源互联网文章,本网不承担任何由内容信息所引起的争议和法律责任。所有作品版权归原创作者所有,与本站立场无关,如用户分享不慎侵犯了您的权益,请联系我们告知,我们将做删除处理!